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大乐透周六走势图南方 www.hqwgez.com.cn 蒂姆新材料

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氧化物系列產品
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品牌: 蒂姆新材料
材質: 氧化物
規格: 99.99% 1-3mm,靶材尺寸可定制
供貨狀態: 靶材,顆粒,粉末
相關產品: 氧化鋁顆粒,氧化鋅顆粒,氧化鉿顆粒,氧化硅顆粒,氧化鎂顆粒,氧化鎢顆粒,氧化鈦顆粒,五氧化三鈦顆粒,氧化鈮顆粒
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氧化物定義:

廣義上的氧化物(oxide)是指氧元素與另外一種化學元素組成的二元化合物。其構成中只含兩種元素,其中一種一定為氧元素,另一種若為金屬元素,則稱為金屬氧化物。常見金屬氧化物產品形態有顆粒、靶材、圓片等狀態,純度3N-5N不等,尺寸、規格可根據要求定做。


主要產品:

一、靶材

常規尺寸:φ50*3mm;φ75*4mm;φ101.6*5mm,

尺寸定做:

  圓靶:直徑φ25.4mm-φ152.4mm,厚度3-6mm等,均可定做;

       方靶:長、寬范圍20-400mm,厚度3-10mm等,均可定做

特殊服務:陶瓷靶材可綁定銅背靶,提高氧化物靶材導電導熱性,防止靶材碎裂

  應用:磁控濺射鍍膜


二、顆粒/圓片顆粒

常規尺寸:1-3mm;3-6mm;φ18*8mm;φ25*10mm等

尺寸定做:可以定做不同規格要求的顆粒、圓片顆粒

應用:蒸發鍍膜


常見顆粒產品規格型號:

分子式品名顆粒規格純度熔點(℃)折射率

透明波段(um)

應用
MgO氧化鎂1-3mm4N28521.730.23-9用作光學材料、電絕緣體材料、電極材料
Al2O3氧化鋁1-3mm4N20451.6-1.660.38-9用作生產高檔耐火材料及電子元器件、電容器、激光材料、發光材料等
AZO氧化鋅鋁1-3mm4N\\\用作制備導電膜
SiO一氧化硅1-3mm3N518701.61.5-8用作光學玻璃和半導體材料的制備,金屬反射鏡上作?;つ?/td>
SiO2二氧化硅1-3mm;4N16101.450.2-9用作非晶硅太陽電池的薄膜光吸收層,半導體存儲器件中的電荷存儲層,薄膜晶體管(TFT   )中的柵介質層、絕緣層
二氧化硅1-3mm;5N16101.450.2-9
TiO一氧化鈦1-3mm4N17002.2-2.30.4-12用作電子材料,用于電子、冶金工業,充氧蒸發易操作,成膜致密;不充氧蒸發可得彩色膜,用于人工寶石制作。
TiO2二氧化鈦1-3mm4N18402.40.36-9具有良好的介電常數和半導體性質,用作陶瓷電容器等電子元器件,適用于電子槍蒸發,膜層致密,牢固,抗化學腐蝕,灰色料比白色料易蒸發,但需充氧
Ti2O3三氧化二鈦1-3mm4N21302.2-2.30.4-12不穩定,比一氧化鈦更加容易氧化,充氧蒸發易操作,成膜致密;不充氧蒸發可得彩色膜,用于人工寶石制作
Ti3O5五氧化三鈦1-3mm陶瓷4N17502.1-2.40.4-12真空鍍膜用材料,用于光學涂層,充氧蒸發易操作,成膜致密;不充氧蒸發可得彩色膜,用于人工寶石制作
1-3mm晶體4N17502.2-2.30.4-12
Cr2O3氧化鉻1-3mm4N24352.551\用于冶金,制作耐火材料、折光材料,著色玻璃等適于電子槍蒸發
MnO2二氧化錳1-3mm4N535\\用于制造金屬錳、特種合金、和電子材料鐵氧體等不適合電子束蒸發
Fe2O3氧化鐵1-3mm3N515652.75-2.9\適用于電子槍和熱蒸發及濺射
NiO氧化鎳1-3mm3N519602-2.10.52用于磁性材料、冶金和顯像管行業、電子元件材料、蓄電池材料
CuO氧化銅1-3mm4N13262.63\用于有色玻璃,陶瓷釉彩、催化、超導、陶瓷等領域,適用于電子槍和熱蒸發
ZnO氧化鋅1-3mm4N197520.4-16用作電子激光材料、磁性材料制造、特種功能涂料、光敏材料
Y2O3氧化釔1-3mm4N26801.8~1.90.23-9用作熒光粉、磁性材料的添加材料,用于制造單晶、薄膜電容器和特種耐火材料,以及高壓水銀燈、激光、儲存元件等
ZrO2二氧化鋯1-3mm4N27001.95-2.050.25-9用于航空航天、國防軍工、原子能、陶瓷燒結、金屬冶煉、高溫分解、半導體制造、石英熔融等領域,用于多層膜。
HfO2二氧化鉿1-3mm黑色4N281220.2-9

半導體場效應管(MOSFET)柵極絕緣層,紫外波段的優良材料

Nb2O5五氧化二鈮1-3mm4N15202.30.35-9用作壓電導體材料,制備特種光學玻璃、高頻和低頻電容器等
Ta2O5五氧化二鉭1-3mm4N18722.30.35-9用于制造高折射低色散特種光學玻璃,有毒
MoO3氧化鉬1-3mm4N7951.9\在機械零件中用作固體潤滑的底膜
WO3氧化鎢1-3mm4N14751.65-1.70.36-10用于制硬質合金,粉末冶金、陶瓷器的著色劑等,鍍變色膜
SnO2氧化錫1-3mm4N11271.99\電磁材料、半導體傳感器材料
ITO氧化銦錫1-3mm4N28720.34~9制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機發光二極管、以及太陽能電池、和抗靜電鍍膜還有EMI屏蔽的透明傳導鍍膜,可配成不同比例材料90:10和95:5常規
1-3mm4N28720.34~9
Bi2O3氧化鉍1-3mm4N8252.50.4用于制金屬鉍、催化劑及鉍系氧化物超導體,蒸氣有毒
La2O3氧化鑭1-3mm4N22501.730.35~2用于制造精密光學玻璃、光導纖維
CeO2氧化鈰1-3mm4N26002.20.46-11基底加溫250-300℃,與鎢反應。適于電子槍蒸發
Pr6O11氧化鐠1-3mm3N521251.83-1.90.4用于玻璃、冶金
Nd2O3氧化釹1-3mm4N22721.80.4-2用于磁性材料,制造金屬釹的原料和強磁性釹鐵硼的原料
Sm2O3氧化釤1-3mm4N23501.80.23用于制取金屬釤、電子器體、磁性材料等
Eu2O3氧化銪1-3mm3N522911.80.23微毒,用于磁泡貯存器件,核反應堆控制棒、屏蔽和結構材料
Gd2O3氧化釓1-3mm3N523101.7-1.80.22-9用于各種熒光粉,原子反應堆中的中子吸收材料,增感屏材料
Tb4O7氧化鋱1-3mm3N52340\\磁光記憶材料
Dy2O3氧化鏑1-3mm3N52330\\磁光記憶材料
Ho2O3氧化鈥1-3mm3N52367\\用作磁性材料及新型電光源
Er2O3氧化鉺1-3mm4N2400\\用作磁性材料
Tm2O3氧化銩1-3mm3N52425\\用作反應堆中的控制材料
Yb2O3氧化鐿1-3mm4N2346\\用于制造特殊合金、介電陶瓷和特殊玻璃
Lu2O3氧化镥1-3mm4N2487\\用于制造光學玻璃、電子元件、磁性材料、特殊合金


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